編號：NMJS08927
篇名：化學(xué)氣相沉積法合成Si3N4納米帶的研究
作者：李思婷 李增祎 傅煜然 劉麗 譚嘉林 趙文科 譚浩博 陳洋
關(guān)鍵詞： Si3N4納米帶 催化 化學(xué)氣相沉積法 顯微結(jié)構(gòu)
機構(gòu)： 湖南工學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院
摘要： 以Si粉,、酚醛樹脂和硝酸鐵為原料,采用化學(xué)氣相沉積法在氮氣氣氛下合成Si3N4納米帶,。研究了熱處理溫度和硝酸鐵添加量對合成Si3N4純度和形貌的影響,。結(jié)果表明,在非催化作用下,熱處理溫度升高有利于提高Si3N4純度;溫度為1500℃時,合成高純Si3N4,其中α-Si3N4和β-Si3N4生成量分別為91%和9%,。添加催化劑顯著影響Si3N4形貌,其形貌由直線形帶狀結(jié)構(gòu)演變?yōu)轵榍膸罱Y(jié)構(gòu),具有這種帶狀結(jié)構(gòu)的Si3N4為α-Si3N4;當硝酸鐵添加量為5%時,α-Si3N4生成量較高,為95%。
