編號：CYYJ03704
篇名：氨分子對加熱引起的石墨層間分離的影
作者：成曉 余真珠 何燕
關鍵詞： 石墨 氨分子 楔形結構 物理插層
機構： 青島科技大學機電工程學院 青島科技大學山東省高性能碳材料制備與應用工程實驗室
摘要： 本文以含氨分子的氨水(NH3·H2O),、碳酸銨((NH4)2CO3)和碳酸氫銨(NH4HCO3)為插層劑,通過攪拌,、超聲、外熱激發(fā)等方式將其插入石墨夾層中,。利用氨分子的“楔形結構”實現(xiàn)插層劑的物理插層,。研究了三種插層劑對加熱引起的石墨層間分離的影響。結果表明,當使用NH3·H2O作為插層劑時,分離效果最好,。此外,FT-IR結果表明沒有形成C=N或CN鍵,，這意味著含有氨分子的插層劑沒有與石墨發(fā)生化學反應，它們是物理插入到層間的,。
