編號(hào)：FTJS09917
篇名：高端電子制程中鈷化學(xué)機(jī)械拋光劑的研究進(jìn)展(Ⅱ)──配位劑,、抑制劑,、磨料及其他
作者：段欣雨 萬傳云 吳兆鍵 張玫姣 倪哲易
關(guān)鍵詞： 鈷 化學(xué)機(jī)械拋光 拋光液 配位劑 抑制劑 磨料 綜述
機(jī)構(gòu)： 上海應(yīng)用技術(shù)大學(xué)化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院
摘要： 綜述了Co作為高密度集成路電子制程的阻擋層及互連材料時(shí),化學(xué)機(jī)械拋光液中常用配位劑、抑制劑,、磨料及其他成分的研究進(jìn)展和作用機(jī)制,展望了Co化學(xué)機(jī)械拋光液的發(fā)展,。
