編號：NMJS00668
篇名：電沉積寬晶粒尺寸分布納米鎳的本征拉伸行為
作者：鄭耀東; 戴品強; 許偉長; 胡樹韌;
關鍵詞：納米鎳; 拉伸行為; 陰極析氫; 電沉積;
機構： 福州大學; 福建工程學院; 北京工業(yè)大學;
摘要： 通過直流電沉積制備平均晶粒度為27.2nm,寬晶粒尺寸分布(10～120nm)的納米鎳(B-NC-Ni),。在B-NC-Ni的拉伸實驗中,存在著兩類不同的工程應力-應變曲線及宏觀斷口,結果表明:完整的拉伸曲線即本征曲線,具有恒應力變形階段,宏觀斷口呈切斷;而不完整的拉伸曲線在平臺出現(xiàn)之前已發(fā)生斷裂,主要是由于電沉積時陰極析出的H可能會使鍍層形成空位和微孔兩類缺陷,均會加劇變形時晶界上裂紋的形成,宏觀斷口呈正斷,。此外,實驗中雜質S(0.015%,質量分數(shù),下同)對B-NC-Ni的拉伸性能影響可忽略,。
