編號：CYYJ01774
篇名：甲基硅酸鹽/硅酸鹽復合膜的組成和性能研究
作者：張雙紅 楊波 翟偉 李爽 孔綱
關鍵詞： 甲基硅酸鈉 疏水性 硅酸鹽復合膜 耐腐蝕性
機構： 廣州特種承壓設備檢測研究院 華南理工大學材料科學與工程學院
摘要： 采用兩步法制備甲基硅酸鹽/硅酸鹽復合膜,通過掃描電子顯微鏡(SEM)及EDS分析、紅外光譜(FT-IR)分析,、接觸角測試,、中性鹽霧實驗和極化曲線等對膜層的微觀形貌、化學組成,、疏水性及耐腐蝕性能進行了研究,并與單獨的硅酸鹽膜,、甲基硅酸鹽膜進行對比。利用電化學阻抗譜和等效電路擬合分析甲基硅酸鹽/硅酸鹽復合膜的防腐蝕機理,。結果表明:甲基硅酸鹽/硅酸鹽復合膜層的外層與單獨甲基硅酸鈉膜的成分含量基本一致,但其微觀形貌與單獨甲基硅酸鹽膜表面布滿裂紋不同,復合膜層的表面均勻平整,、沒有開裂,膜層附著性好。單獨硅酸鹽膜為親水性膜層,甲基硅酸鹽/硅酸鹽復合膜表現(xiàn)出疏水性,與單獨硅酸鹽膜相比,復合膜對腐蝕的陰極過程的抑制明顯增強,極化阻抗增加至單獨硅酸鹽膜的5倍以上,復合膜的總阻抗值超過100 kΩ·cm~2,復合膜的腐蝕電流密度比單獨硅酸鹽膜的降低了60%,。
