編號：FTJS08608
篇名：熔制氣氛對石英玻璃中羥基含量及穩(wěn)定性的影響
作者：肖鵬 王玉芬 向在奎 聶蘭艦 王蕾 邵竹鋒 符博 賈亞男 王慧 王宏杰 饒傳東 張辰陽
關鍵詞： 石英玻璃 二氧化硅 羥基 熔制氣氛 穩(wěn)定性
機構： 中國建筑材料科學研究總院有限公司石英與特種玻璃研究院
摘要： 以Ⅲ類石英玻璃為研究對象,從實際試驗熔制角度,探究了不同熔制氣氛下石英玻璃沿徑向方向上羥基的含量及分布情況,并對羥基的形成原因及穩(wěn)定性進行了初步分析,。結(jié)果表明,不同熔制氣氛下的石英玻璃中羥基分布均呈現(xiàn)出中間高邊緣低,中性氣氛中羥基含量最低,還原氣氛中羥基含量最高,。停料空燒方法可改善原有氧化氣氛中石英玻璃產(chǎn)率較低的情況,但會導致砣面表面不平整,邊緣羥基含量大幅增加,。不同熔制氣氛下的石英玻璃經(jīng)高溫熱處理后羥基含量趨于一致,還原氣氛下的降幅最大,約55%,。
