編號：NMJS00455
篇名：納米二氧化硅的修飾及其富集分離Cu(Ⅱ)和Ni(Ⅱ)的研究
作者：屈革榮;
關(guān)鍵詞：肼基硫代甲酸芐酯; 納米SiO2; 富集分離; Cu(Ⅱ); Ni(Ⅱ);
機(jī)構(gòu)： 錫林郭勒職業(yè)學(xué)院機(jī)械與電力工程系;
摘要： 用肼基硫代甲酸芐酯成功修飾了納米SiO2,用于富集分離溶液中痕量的重金屬離子,。實驗表明,pH3時,改性納米SiO2對Cu(Ⅱ)和Ni(Ⅱ)離子具有很高的選擇性,檢出限分別是0.31,、0.43μgL-1,R.S.D低于3.0%,用于實際樣品中Cu(Ⅱ)和Ni(Ⅱ)離子的富集分離結(jié)果令人滿意,。
