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電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES)法測(cè)定鎳基/鈷基高溫合金中硼磷硅

編號(hào):NMJS07884

篇名:電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES)法測(cè)定鎳基/鈷基高溫合金中硼磷硅

作者:王丹 王春浩 李輝

關(guān)鍵詞: 電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES) 鎳基/鈷基高溫合金 硼 磷 硅

機(jī)構(gòu): 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所

摘要: 采用一定比例的混合酸溶解樣品,利用基體匹配配制一系列標(biāo)準(zhǔn)溶液消除基體的影響,以及軸向觀測(cè)噴嘴吹掃技術(shù)來提高待測(cè)元素的靈敏度,使用電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES)法測(cè)定鎳基/鈷基高溫合金中硼磷硅,。各元素選的分析線依次為B 182.577 nm,、P 178.222 nm,、Si 185.005 nm,。檢測(cè)范圍分別是:B 0.001%~3.0%,P 0.003%~0.20%,Si 0.005%~3.0%,檢出限范圍為0.00005%~0.0004%,線性相關(guān)系數(shù)>0.9995,。加標(biāo)回收率為90.0%~105%,精密度RSD<2.0%,。方法操作簡(jiǎn)單快速,結(jié)果令人滿意,。

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