編號：NMJS00419
篇名：納米氧化釓/NBR復合材料的制備及其屏蔽性能研究
作者：趙永鋒; 胡水; 張立群; 劉力;
關鍵詞：納米氧化釓; NBR; 復合材料; 噴霧干燥; 形態(tài)結構; 屏蔽性能;
機構： 北京化工大學北京市新型高分子材料制備與加工重點實驗室; 北京化工大學教育部納米材料重點實驗室;
摘要： 采用共沉淀法和噴霧干燥法相結合經(jīng)高溫煅燒制備納米級氧化釓,通過與NBR共混制備納米氧化釓/NBR復合材料,并對其形態(tài)結構和屏蔽性能進行分析研究,。結果表明,采用共沉淀和噴霧干燥法相結合制備的納米氧化釓粒子為立方晶型,粒徑約為100nm;納米氧化釓/NBR復合材料中的納米氧化釓粒徑為100～500nm,屏蔽性能在管電壓為110kV時出現(xiàn)峰值,。
