編號(hào)：CYYJ02341
篇名：鉻過(guò)渡層對(duì)氮化鉻/鎂合金膜基界面結(jié)合強(qiáng)度的影響
作者：劉瑞霞 郭鋒 韓海鵬
關(guān)鍵詞： 鎂合金 磁控濺射 氮化鉻膜 鉻過(guò)渡層 膜基結(jié)合強(qiáng)度
機(jī)構(gòu)： 內(nèi)蒙古鄂爾多斯職業(yè)學(xué)院機(jī)電工程系 內(nèi)蒙古自治區(qū)涂層與薄膜重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 內(nèi)蒙古工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院
摘要： 為了提高磁控濺射氮化鉻膜與鎂合金基底的結(jié)合強(qiáng)度,在兩者之間以不同工藝濺射沉積鉻過(guò)渡層,分析并討論了鉻過(guò)渡層對(duì)膜基界面結(jié)合強(qiáng)度的影響及其機(jī)制。結(jié)果表明,在鎂合金/氮化鉻之間增加鉻過(guò)渡層可提高表征膜基結(jié)合強(qiáng)度的膜層破裂臨界載荷,且當(dāng)鉻過(guò)渡層的濺射工藝為濺射功率100 W,、負(fù)偏壓30 V,、基底溫度25℃、濺射時(shí)間4 min時(shí)膜層破裂臨界載荷最大,此工藝下鉻過(guò)渡層表面在微觀上具有最大的粗糙度和最小的突起間隔;鉻過(guò)渡層增強(qiáng)界面結(jié)合的作用主要表現(xiàn)為改善了氮化鉻與鎂合金基底之間的結(jié)合狀況,與鉻/氮化鉻接界面積較大且能有效機(jī)械互鎖,、鉻過(guò)渡層緩減了界面應(yīng)力等機(jī)制有關(guān),。
