編號：NMJS07851
篇名：六方氮化硼層間氣泡制備與壓強研究
作者：姜程鑫 陳令修 王慧山 王秀君 陳晨 王浩敏 謝曉明
關鍵詞： 六方氮化硼 等離子體處理 納米氣泡 范德瓦耳斯異質(zhì)結(jié)
機構(gòu)： 上�,？萍即髮W物質(zhì)學院 中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所 中國科學院大學材料科學與光電技術學院 中國科學院超導電子學卓越創(chuàng)新中心
摘要： 六方氮化硼(h-BN)具有六角網(wǎng)狀晶格結(jié)構(gòu)和高化學機械穩(wěn)定性,可以用來封裝氣體并長期保持穩(wěn)定,適合用作新型信息器件及微納機電器件的襯底材料,具有巨大的應用前景.近期,科研人員發(fā)現(xiàn)氫原子可以無損穿透多層h-BN,在層間形成氣泡,可用作微納機電器件.本文研究了氫等離子體處理時間對h-BN氣泡尺寸的影響.發(fā)現(xiàn)隨著處理時間的延長,氣泡尺寸整體變大且分布密集程度會降低.原子力顯微鏡的測量發(fā)現(xiàn)所制備的h-BN氣泡具有相似的形貌特征,該特征與h-BN的楊氏模量和層間范德瓦耳斯作用相關.此外,發(fā)現(xiàn)微米尺寸氣泡的內(nèi)部壓強約為1—2 MPa,納米尺寸氣泡的內(nèi)部壓強可達到GPa量級.
