編號：FTJS08018
篇名：氮氣流量和退火處理對射頻磁控濺射氮摻雜二氧化鈦薄膜性能的影響
作者：楊勇 汪冰潔 姚婷婷 李剛 金克武 沈洪雪 王天齊 楊揚 彭賽奧 甘治平 馬立云
關(guān)鍵詞： 氮摻雜二氧化鈦薄膜 射頻磁控濺射 沉積速率 禁帶寬度
機構(gòu)： 浮法玻璃新技術(shù)國家重點實驗室
摘要： 常溫下利用TiO2陶瓷靶采用射頻磁控濺射法在玻璃襯底上制備了N摻雜TiO2薄膜,。利用光學(xué)輪廓儀,、X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜儀分析(XPS)和分光光度計等對薄膜的沉積速率,、化學(xué)組成,、晶體結(jié)構(gòu)和禁帶寬度進行了系統(tǒng)研究,。結(jié)果表明:磁控濺射N2流量和退火處理對薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和性能有重要的影響。退火前,薄膜由非晶態(tài)TiO2構(gòu)成;退火后,薄膜呈現(xiàn)銳鈦礦相和金紅石相的混合相,。隨著磁控濺射系統(tǒng)中N2流量的增加,退火前禁帶寬度從3.19eV減少到2.15eV;退火后,薄膜由非晶相TiO2組織轉(zhuǎn)化為銳鈦礦TiO2和金紅石TiO2構(gòu)成的渾河相組織,禁帶寬度相比退火前的非晶相TiO2薄膜略有增加,。
