編號(hào)：NMJS00367
篇名：納米硅通道內(nèi)滑移現(xiàn)象的分子動(dòng)力學(xué)模擬
作者：顧驍坤; 陳民;
關(guān)鍵詞：硅通道; 氣體層; 滑移長度; 分子動(dòng)力學(xué)模擬;
機(jī)構(gòu)： 清華大學(xué)航天航空學(xué)院; 傳熱強(qiáng)化與過程節(jié)能教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
摘要： 采用分子動(dòng)力學(xué)方法研究了水在硅通道中的流動(dòng)現(xiàn)象,。通過模擬Couette剪切流動(dòng),得到了通道中流體的速度分布,同時(shí)考察了壁面吸附氣體以及壁面具有納米結(jié)構(gòu)情況下的流動(dòng),。模擬表明氣體層以及微結(jié)構(gòu)的存在可以改變硅表面的滑移性質(zhì),進(jìn)而可以通過在壁面構(gòu)造納米結(jié)構(gòu)以及在通道中充入氣體來改變和控制納米通道中的流體輸運(yùn)。
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