氧氮?dú)錃怏w分析儀的石墨坩堝升溫過程研究

編號：FTJS00897

篇名：氧氮?dú)錃怏w分析儀的石墨坩堝升溫過程研究

作者：張長均; 王蓬; 黃小峰; 楊植崗; 張之果;

關(guān)鍵詞：石墨坩堝; 功率; 溫度; 光電高溫計;

機(jī)構(gòu)： 鋼鐵研究總院;

摘要： 利用激光瞄準(zhǔn)光電高溫計對同一坩堝的溫度重復(fù)性和坩堝間的溫度重復(fù)性進(jìn)行試驗(yàn),并繪制了標(biāo)準(zhǔn)坩堝,、套坩堝的功率與溫度曲線,標(biāo)準(zhǔn)坩堝和套坩堝常用功率的升溫過程曲線,。實(shí)驗(yàn)表明:同一標(biāo)準(zhǔn)坩堝在4.0 kW功率下重復(fù)加熱5次,每次加熱時間為50 s,坩堝內(nèi)的溫度不變,因此在銅的分析中重復(fù)使用坩堝是可行的;在相同的條件下對11只標(biāo)準(zhǔn)坩堝進(jìn)行加熱,測得坩堝溫度的標(biāo)準(zhǔn)偏差遠(yuǎn)大于同一坩堝的溫度標(biāo)準(zhǔn)偏差;加熱功率從1.5 kW增加到4.0 kW時標(biāo)準(zhǔn)坩堝和套坩堝的溫度基本相同,從4.0 kW增加到7.5 kW時標(biāo)準(zhǔn)坩堝的溫度高于套坩堝;在4 kW功率下加熱20 s兩種坩堝的溫度均升到2 100℃,其后在60 s內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)坩堝上升了50℃,溫度波動了2.38%,而套坩堝溫度基本無變化,說明套坩堝的溫度穩(wěn)定性好于標(biāo)準(zhǔn)坩堝,。