編號:CPJS00635
篇名:HClO_4-CrO_3-石墨層間化合物的制備及其性能
作者:周明善; 劉麗梅; 李澄俊; 陶勇;
關(guān)鍵詞:石墨層間化合物; 膨脹容積; 膨脹石墨; 化學(xué)氧化;
機(jī)構(gòu): 云南廣播電視大學(xué)化工學(xué)院; 南京理工大學(xué)化工學(xué)院;
摘要: 以天然鱗片石墨,、CrO3,、HClO4為原料,采用化學(xué)氧化法制備石墨層間化合物(GIC);研究了反應(yīng)物用量,、反應(yīng)時(shí)間,、反應(yīng)溫度對石墨層間化合物膨脹容積的影響。結(jié)果表明:按石墨∶三氧化鉻∶高氯酸(質(zhì)量比)=1∶0.3∶5,反應(yīng)溫度30℃,反應(yīng)時(shí)間60min的條件,可制得膨脹容積為555mL.g-1的石墨層間化合物,。采用FTIR,、XRD,、TG等技術(shù)對石墨層間化合物的組成,、結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征和分析得知:石墨層間的插入物為ClO4-,、Cr2O72-。GIC性能特點(diǎn)測試結(jié)果說明:所制GIC具有低能耗性能,、良好的真空安定性,、較好的8毫米波動(dòng)態(tài)衰減效果。
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