編號(hào)：NMJS07298
篇名：銅箔表面化學(xué)刻蝕預(yù)處理對(duì)CVD法制備石墨烯的影響
作者：劉湘祁 尹建成 林正得
關(guān)鍵詞： 化學(xué)氣相沉積法 石墨烯 銅箔 預(yù)處理
機(jī)構(gòu)： 昆明理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所
摘要： 銅箔上的雜質(zhì)在化學(xué)氣相沉積法(CVD)制備石墨烯的過程中會(huì)形成氧化物顆粒,導(dǎo)致所制得的石墨烯質(zhì)量降低,。為解決這一問題,可以在CVD生長(zhǎng)石墨烯之前對(duì)銅箔表面進(jìn)行預(yù)處理來去除銅箔表面雜質(zhì)并降低銅箔粗糙度,。本研究使用過硫酸銨溶液和稀醋酸溶液分別對(duì)銅箔表面進(jìn)行輕微刻蝕,以此作為預(yù)處理手段,研究其對(duì)CVD生長(zhǎng)制備石墨烯的影響,并對(duì)銅箔和石墨烯使用拉曼光譜和霍爾效應(yīng)測(cè)試等方法進(jìn)行表征,。研究發(fā)現(xiàn)這一化學(xué)預(yù)處理可以有效去除銅箔表面雜質(zhì),從而使制備得到的石墨烯電學(xué)性能得到改善,質(zhì)量顯著提高。
