編號：NMJS07080
篇名：利用原子轉(zhuǎn)移自由基聚合法制備SiO2/PAM納米復合材料
作者：王文平 方廣 蘇亞林 許杰 張辰
關(guān)鍵詞： 納米二氧化硅 原子轉(zhuǎn)移自由基聚合 2-羥基-2′-乙基-2′-溴丙酸乙酯 分散性
機構(gòu)： 合肥工業(yè)大學化學與化工學院
摘要： 為了改善二氧化硅(SiO2)納米粒子在聚合物基體中的分散性,采用原子轉(zhuǎn)移自由基聚合(ATRP)法將聚合物接枝到納米SiO2表面,。用甲苯-2,4-二異氰酸酯(TDI)對納米SiO2表面進行改性,然后與2-羥基-2′-乙基-2′-溴丙酸乙酯(HMB)反應(yīng),在表面引入ATRP引發(fā)劑,合成納米二氧化硅顆粒(SiO2-Br),。紅外光譜(FT-IR)分析,、熱失重分析(TGA)和X-射線光電子能譜(XPS)結(jié)果表明,成功制備了SiO2-Br引發(fā)劑,并通過ATRP法將聚丙烯酰胺(PAM)接枝到納米SiO2表面,。通過凝膠滲透色譜(GPC)和分散性實驗對改性后的樣品進行了表征,結(jié)果表明,改性后的納米SiO2在甲苯中具有良好的分散性,。
