編號：CPJS06292
篇名：硼修飾納米二氧化硅交聯(lián)劑研發(fā)及性能評價
作者：熊俊杰 李春 楊生文 安琦 于吉 王世華
關鍵詞： 交聯(lián)劑 硼修飾納米二氧化硅 瓜膠壓裂液 中低溫儲層 低溫激活劑 低傷害
機構： 中海油能源發(fā)展股份有限公司工程技術分公司
摘要： 針對目前常規(guī)有機硼,、無機硼交聯(lián)的瓜膠壓裂液普遍存在羥丙基瓜膠用量大,、殘渣含量高等的問題,筆者先將硅酸鈉水解制得納米二氧化硅,然后將制得的納米二氧化硅與γ-氨丙基三甲氧基硅烷反應得到表面修飾納米二氧化硅,再與硼酸進行反應,最后制得可交聯(lián)的硼修飾納米二氧化硅交聯(lián)劑,該交聯(lián)劑粒徑主要分別在7~11 nm,可有效降低瓜膠用量及殘渣含量,。研究了該交聯(lián)劑交聯(lián)的羥丙基瓜膠壓裂液,室內研究表明,該壓裂液體系各項性能良好:在溫度分別為50℃,、120℃,剪切速率170 s^-1下連續(xù)剪切120 min,最終黏度均大于50 mPa s;50℃下破膠60 min,破膠液黏度小于5mPa s;表面張力22.77 mN/m;防膨率89.6%;殘渣含量145 mg/L;巖心基質滲透率損害率為9.82%~14.86%,壓裂液各項性能良好,羥丙基瓜膠濃度降低20%,殘渣含量降低25%,滿足現(xiàn)場施工要求。
