編號：NMJS06968
篇名：金屬基底上金屬納米顆粒間隙內(nèi)的自發(fā)輻射調(diào)控
作者：劉孟穎 鐘瑩
關鍵詞： 薄膜 金納米顆粒 輻射源 輻射速率 輻射方向
機構(gòu)： 天津大學精密儀器與光電子工程學院精密測試技術及儀器國家重點實驗室
摘要： 將聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)層置于金納米顆粒與金基底之間,研究了金納米顆粒對處于PMMA夾層中的分子或量子點輻射源的總輻射速率,、遠場輻射速率、輻射方向等的影響,。與單個金納米顆粒相比,當2,3,5,9個金納米顆粒等間距排列時,總輻射速率和遠場輻射速率都會增強,。通過測量遠場輻射方向,可以反推出納米顆粒的數(shù)量和間距,從而實現(xiàn)納米顆粒數(shù)量和間距的高精度測量。
