編號：CPJS06175
篇名：納米SiO2對Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層性能的影響
作者：劉軍松 吳汯翰 劉定富 葉濤 張厚
關鍵詞： 納米SIO2 Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層 耐蝕性
機構： 貴州大學化學與化工學院
摘要： 先通過赫爾槽試驗優(yōu)化了乙酸鹽體系電鍍Zn-Ni合金的基礎鍍液配方,得到了全光亮的赫爾槽試片;再向基礎鍍液中添加納米SiO2,通過單因素試驗研究了納米SiO2的質量濃度對Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層的孔隙率及耐蝕性的影響,。結果表明:當納米SiO2的質量濃度為8g/L時,Zn-Ni/納米SiO2復合鍍層的孔隙率最低,耐蝕性最好,。
