編號：FTJS07036
篇名：類石墨相C_3N_4光催化劑改性研究
作者：徐建華 談玲華 寇波 杭祖圣 姜煒 郟永強
關鍵詞： 類石墨相氮化碳 半導體 太陽能 光催化 改性
機構： 南京工程學院材料工程學院 江蘇省先進結構材料與應用技術重點實驗室 南京理工大學國家特種超細粉體工程技術研究中心
摘要： 半導體光催化技術不僅可以將太陽能轉化為化學能,還可以直接降解和礦化有機污染物,因此其在抑制環(huán)境污染和解決能源短缺方面具有廣闊的應用前景。類石墨相氮化碳（g-C_3N_4）具有獨特的電子能帶結構,、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性以及化學穩(wěn)定性,因此g-C_3N_4作為一種廉價的無金屬光催化劑被廣泛應用于光解水制氫產(chǎn)氧,、污染物降解、光催化CO2還原,、抗菌和有機官能團選擇性轉換等領域。然而,傳統(tǒng)熱縮聚法合成的g-C_3N_4光催化劑比表面積小、禁帶寬度大,、光生電子-空穴易于復合,、光生載流子傳輸慢,抑制了其光催化活性。為了進一步提高g-C_3N_4的光催化活性,出現(xiàn)了多種改性方法,。本文針對g-C_3N_4光催化劑的改性研究,綜述了近年來國內(nèi)外在g-C_3N_4光催化劑改性方面的重要研究進展,如采用模板法優(yōu)化g-C_3N_4的納米結構、元素摻雜及共聚合調控g-C_3N_4的能帶結構,、貴金屬沉積或半導體復合提高光生載流子分離效率等,。最后,本文還展望了g-C_3N_4光催化劑在改性方面的未來發(fā)展趨勢,。
