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在不同水基納米TiN流體中銅片的腐蝕行為

編號:NMJS06412

篇名:在不同水基納米TiN流體中銅片的腐蝕行為

作者:陳旭 ;吳張永 ;莫子勇 ;蔡曉明 ;魏鏡弢

關鍵詞: 納米TiN流體 分散劑 分散介質 超聲分散時間 腐蝕速率

機構: 昆明理工大學機電工程學院,昆明650500

摘要: 以不同添加量的十六烷基三甲基溴化銨(CTMAB)、N-聚乙烯吡咯烷酮(PVP)以及兩者的混合物為分散劑,,以自來水,、去離子水、膜處理水為分散介質,,在不同超聲分散時間下分別制備得到了不同的納米TiN流體,,研究了銅片在這些流體中的腐蝕行為。結果表明:當以CTMAB為分散劑時能促進銅片的腐蝕,,銅片腐蝕速率隨CTMAB含量的增加而增大,,隨著超聲分散時間的延長先急劇下降,當超過8min后變化較小,,最佳超聲分散時間為8min,;當以PVP為分散劑時能抑制銅片的腐蝕,,銅片的腐蝕速率隨著PVP含量的增加而減小,隨著超聲分散時間的延長先增后降,,最佳超聲分散時間為6~8min,;當以自來水為分散介質時銅片的腐蝕速率最大,其次為以去離子水為分散介質的,,以膜處理水為分散介質的最小,。

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