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電流密度對Ni/WC-Co納米復合鍍層性能的影響

編號:FTJS06802

篇名:電流密度對Ni/WC-Co納米復合鍍層性能的影響

作者:宋見 ;陳吉

關(guān)鍵詞: 電流密度 納米晶 WC-CO 耐蝕性

機構(gòu): 遼寧石油化工大學機械工程學院,遼寧撫順113001

摘要: 采用直流電沉積方法,在黃銅基體上制備出Ni/WC-Co納米復合鍍層,。分別采用SEM和XRD表征鍍層的表面形貌和結(jié)構(gòu),,采用微米壓痕儀測量鍍層的硬度,采用電化學工作站測量鍍層的極化曲線,。結(jié)果表明:Ni/WC-Co納米復合鍍層的耐蝕性隨電流密度的增大呈現(xiàn)出先升高后降低的趨勢,;當電流密度為10A/dm^2時,Ni/WC-Co納米復合鍍層的耐蝕性最好,,自腐蝕電位最正,,自腐蝕電流密度最小。

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