編號：NMJS06241
篇名：納米SiO2在化學(xué)鍍Ni-P合金鍍液中的分散性研究
作者：陳爾躍 ;翟方慧 ;徐娟
關(guān)鍵詞：分散 納米SIO2 化學(xué)復(fù)合鍍 分光光度法
機(jī)構(gòu)： 齊齊哈爾大學(xué),黑龍江齊齊哈爾161006
摘要： 采用紅外-紫外-可見分光光度計法研究了不同表面活性劑、配位劑,、納米SiO2和p H對納米粒子在溶液中的分散性和穩(wěn)定性的影響;討論了在不同溫度和納米粒子含量下,納米粒子在銅表面的沉積速度,。實驗結(jié)果表明,化學(xué)復(fù)合鍍Ni-P合金最佳工藝及操作條件是表面活性劑為5 g/L十二烷基硫酸鈉,配位劑為13 g/L醋酸鈉,2 mL/L乳酸,pH為5.0～5.5,3 g/L納米SiO2,θ為80～85℃。
