編號：CPJS05163
篇名：納米金-聚二甲基硅氧烷復合薄膜的制備及研究
作者：張丹[1,2] ;趙東[1,2] ;桑勝波[1,2] ;張文棟[1,2] ;菅傲群[1,2] ;段倩倩[1,2] ;冀建龍[1,2]
關鍵詞：納米金 聚二甲基硅氧烷 復合材料 光學特性 電學特性
機構： [1]太原理工大學信息工程學院微納系統(tǒng)研究中心,太原030024; [2]太原理工大學新型傳感器與智能控制教育部和山西省重點實驗室,太原030024
摘要： 基于聚二甲基硅氧烷（PDMS）可成膜的特殊性質(zhì),提出了以納米金為金種,PDMS為基體制備出納米金-PDMS復合薄膜,。首先用三甲基氯硅烷（TMCS）對玻璃襯底進行硅烷化處理,在襯底表面旋涂PDMS薄膜,。然后分兩步用化學還原法還原氯金酸溶液,制備出納米金復合薄膜,。通過掃描電鏡觀察納米金復合薄膜的形貌結構,研究了復合薄膜的紫外可見光吸收曲線,。并用半導體特性分析儀（B1500）對不同還原時間的納米金復合薄膜進行了電學測試,。結果表明：復合薄膜光學性質(zhì)良好,薄膜中納米金顆粒的數(shù)量可以通過調(diào)節(jié)還原時間來控制,第二步還原14h時可得到電學性能相對較好的復合薄膜,。
