編號：CPJS05114
篇名：納米結(jié)構(gòu)碳基薄膜的制備及性能研究
作者：劉廣橋[1,2] ;董麗梅[1] ;李菊生[1] ;吳明永[1] ;張俊彥[2]
關(guān)鍵詞：納米結(jié)構(gòu) 碳薄膜 摩擦學(xué) 力學(xué)
機(jī)構(gòu)： [1]蘭州城市學(xué)院培黎石油工程學(xué)院,肅蘭州730070; [2]中科院蘭州化學(xué)物理研究所固體潤滑國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,肅蘭州730000
摘要： 利用單極脈沖等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)在單晶硅襯底上沉積含氫碳薄膜,用高分辨透射電子顯微鏡和激光拉曼光譜儀研究薄膜的微觀結(jié)構(gòu),用X射線光電子能譜分析薄膜的化學(xué)鍵狀態(tài),并用納米壓痕儀測定薄膜的硬度和彈性模量,在CSM往復(fù)式摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)上考察薄膜的摩擦學(xué)性能。結(jié)果表明：在單極脈沖等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)上成功制備出在非晶基體上鑲嵌彎曲類富勒烯納米結(jié)構(gòu)的含氫碳薄膜,其獨(dú)特的類富勒烯納米結(jié)構(gòu)賦予薄膜良好的力學(xué)性能,其彈性恢復(fù)系數(shù)和硬度分別高達(dá)86%和26.37 GPa;與非晶結(jié)構(gòu)薄膜相比,制備的納米結(jié)構(gòu)含氫碳薄膜在室溫環(huán)境下摩擦學(xué)性能更為優(yōu)異,在機(jī)械摩擦表面具有廣闊的應(yīng)用前景。
