編號：NMJS05879
篇名：低比表面積納米二氧化硅的制備研究
作者：沈俊[1] ;趙燕[2]
關(guān)鍵詞：納米二氧化硅 低比表面積 乙硅烷 乙硅氧烷
機(jī)構(gòu)： [1]寧夏勝藍(lán)化工環(huán)保科技有限公司,寧夏石嘴山753200; [2]寧波大學(xué)建筑工程與環(huán)境學(xué)院,浙江寧波315211
摘要： 以含有Si-O-Si鍵及si—Si鍵的物質(zhì)為原料,，采用氣相法制備低比表面積納米二氧化硅,。考察不同分子結(jié)構(gòu)對最終樣品粒度,、比表面積的影響,。采用低溫氮吸附、納米粒度測試等手段對樣品進(jìn)行了表征,。結(jié)果表明,，si-O-si形式的分子結(jié)構(gòu)更有利于形成低比表面積的納米二氧化硅，分子中取代基團(tuán)對樣品孔特性及粒度也有明顯影響,。
