編號：NMJS05698
篇名：等離子體氣相凝聚技術(shù)制備銅納米團(tuán)簇薄膜的沉積速率研究
作者：黃江磊[1,2] ;羅江山[2] ;李喜波[2] ;王雅麗[2] ;張建波[2] ;易勇[1] ;唐永建[1,2]
關(guān)鍵詞：等離子體氣相凝聚技術(shù) 差分抽氣技術(shù) 銅納米團(tuán)簇薄膜 沉積速率
機構(gòu)： [1]西南科技大學(xué)極端條件物質(zhì)特性實驗室,四川綿陽621010; [2]中國工程物理研究院激光聚變研究中心等離子體物理重點實驗室,四川綿陽621900
摘要： 采用等離子體氣相凝聚技術(shù)并結(jié)合差分抽氣技術(shù)產(chǎn)生銅納米團(tuán)簇束流,然后在襯底上沉積銅納米團(tuán)簇薄膜,研究了濺射電流、氬氣流量和結(jié)露區(qū)長度對其沉積速率的影響。利用X射線衍射儀和透射電子顯微鏡對薄膜微結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征,。結(jié)果表明：保持其他參數(shù)不變的情況下,增加濺射電流和氬氣流量,銅納米團(tuán)簇薄膜的沉積速率均呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢,而結(jié)露區(qū)長度對沉積速率的影響無明顯規(guī)律,這主要歸因于銅納米團(tuán)簇粒子的平均自由程變化,。銅納米團(tuán)簇薄膜主要由粒徑約為幾納米的團(tuán)簇顆粒組成,其結(jié)晶程度較低。
