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微波酸堿處理微納米碳化硅粉體雜質(zhì)去除工藝研究

編號(hào):NMJS05677

篇名:微波酸堿處理微納米碳化硅粉體雜質(zhì)去除工藝研究

作者:鐵健 ;鐵生年

關(guān)鍵詞:微納米碳化硅粉體 提純 微波酸堿處理

機(jī)構(gòu): 青海大學(xué)新能源光伏產(chǎn)業(yè)研究中心,西寧810016

摘要: 利用微波消解技術(shù)和酸堿化學(xué)介質(zhì)對(duì)微納米碳化硅粉體中Fe2O3,Si,SiO2去除工藝進(jìn)行了研究,。正交試驗(yàn)結(jié)果表明:微波功率4 kW,微波頻率2450 MHz時(shí),反應(yīng)溫度90℃,鹽酸濃度3 mol·L^-1,反應(yīng)時(shí)間10 min,液固比4∶1,Fe2O3去除率達(dá)到97.4%;反應(yīng)溫度90℃,氫氧化鈉濃度180 g·L^-1,反應(yīng)時(shí)間10 min,液固比3∶1,Si的去除率達(dá)到97.31%,SiO2達(dá)到97.26%;除雜后SiC粉體的純度達(dá)到98.1%;通過(guò)碳化硅粉體形貌分析,除雜后SiC粉體表面附著物質(zhì)明顯減少,較除雜前更加光滑,。

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