編號(hào)：CPJS03743
篇名：基于氧化鋁模板原位制備Ni/Al-LDHs薄膜的工藝及性能研究
作者：杜寶中 ;楊渝 ;楊國(guó)農(nóng) ;荊媛媛 ;張青
關(guān)鍵詞：Al片 電化學(xué)陽(yáng)極氧化 原位合成 水滑石薄膜 插層薄膜
機(jī)構(gòu)： 西安理工大學(xué)應(yīng)用化學(xué)系
摘要： 采用電化學(xué)陽(yáng)極氧化鋁模板提供Al^3＋ ,在Ni（NO3）2 和NH4NO3溶液中采用原位生長(zhǎng)法制備了Ni/Al-NO3-LDHs薄膜,在弱酸性條件下通過(guò)離子交換將磺基水楊酸陰離子引入Ni/Al-NO3-LDHs薄膜層間,制備了磺基水楊酸/LDHs復(fù)合薄膜,優(yōu)化了工藝條件,并借助XRD,、FT-IR,、SEM 等手段對(duì)薄膜進(jìn)行了結(jié)構(gòu)和形貌分析.結(jié)果表明,磺基水楊酸陰離子成功插層于LDHs薄膜層間,層間距由0.883nm 增大為1.153nm,NO3- 離子在1384cm^-1 的特征峰基本消失,同時(shí)出現(xiàn)了磺基水楊酸的特征峰.SEM 照片顯示,LDHs晶片垂直于Al基底生長(zhǎng). 電化學(xué)腐蝕和UVGVis分析表明,LDHs薄膜具有良好的耐蝕性和優(yōu)異的紫外阻隔性能.
