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包覆層厚度對(duì) Fe3O4@SiO2核殼結(jié)構(gòu)納米粒子磁共振性能的影響

編號(hào):FTJS05740

篇名:包覆層厚度對(duì) Fe3O4@SiO2核殼結(jié)構(gòu)納米粒子磁共振性能的影響

作者:萬家齊 ;陳克正 ;王書憲

關(guān)鍵詞:四氧化三鐵 二氧化硅 核殼結(jié)構(gòu) 硅粉水解 磁共振成像性能

機(jī)構(gòu): 青島科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,山東青島266042

摘要: 二氧化硅包覆四氧化三鐵核殼結(jié)構(gòu)納米粒子在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域有著廣泛的用途,。本文采用單質(zhì)硅粉水解法,,以單分散水溶性 Fe3 O4納米粒子為內(nèi)核,通過改變反應(yīng)體系中單質(zhì)硅粉的加入質(zhì)量,制備了不同包覆厚度的 Fe3 O4@SiO2納米粒子,,并對(duì)SiO2包覆層厚度對(duì) Fe3 O4納米粒子磁共振性能的影響進(jìn)行了研究。結(jié)果表明:隨著 SiO2殼層厚度的增加,,橫向弛豫效率 r2逐漸降低,。弛豫效率降低是由水分子與磁性納米粒子內(nèi)核之間的距離逐漸增大引起的。

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