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碳化硅/二氧化硅核殼結(jié)構(gòu)納米線的制備及場發(fā)射特性研究

編號:CPJS03703

篇名:碳化硅/二氧化硅核殼結(jié)構(gòu)納米線的制備及場發(fā)射特性研究

作者:劉霞,; 曹連振; 蔣紅,; 宋航,;

關(guān)鍵詞:碳化硅; 二氧化硅,; 核殼結(jié)構(gòu),; 場發(fā)射特性;

機構(gòu): 山東省多光子糾纏與操縱重點實驗室,濰坊學(xué)院物理與光電工程學(xué)院,; 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所,;

摘要: 以甲烷和二氧化硅納米球為源,鐵作催化劑,成功制備了長徑比達200的碳化硅/二氧化硅核殼結(jié)構(gòu)一維納米線,分析了納米線的合成機制,并研究了納米線的場發(fā)射特性,。研究結(jié)果表明,當(dāng)施加的電場為5.5V/μm時,納米線的場發(fā)射電流密度可達0.41mA/cm2,顯示出良好的場發(fā)射特性。通過分析實驗結(jié)果,認(rèn)為納米線具有良好場發(fā)射特性的原因有2個:一個是核殼結(jié)構(gòu)納米線的長徑比比較大;另一個是核殼結(jié)構(gòu)納米線表面包覆的低電子親和勢的二氧化硅薄層抑制了表面缺陷發(fā)射,。

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