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石墨烯晶體管的加工及測(cè)試研究

編號(hào):NMJS05457

篇名:石墨烯晶體管的加工及測(cè)試研究

作者:王永存; 薛晨陽(yáng),; 劉耀英,; 田學(xué)東; 張文棟,; 李鐵,;

關(guān)鍵詞:石墨烯,; 晶體管; 氧等離子體刻蝕,; 狄拉克點(diǎn),; 開關(guān)比; 柵調(diào)制,;

機(jī)構(gòu): 中北大學(xué),儀器科學(xué)與動(dòng)態(tài)測(cè)試教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,電子測(cè)試技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,; 中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所;

摘要: 石墨烯晶體管因其超高響應(yīng)頻率和超小的體積成為新一代半導(dǎo)體基礎(chǔ)器件的發(fā)展趨勢(shì),。針對(duì)不同結(jié)構(gòu)的石墨烯晶體管在電學(xué)特性上存在差異,通過化學(xué)氣相沉積法(CVD)在銅箔上生長(zhǎng)石墨烯薄膜,轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜到Si/SiO2基底上,經(jīng)過光刻,、等離子體刻蝕、電子束蒸發(fā)和ALD等工藝制備出頂柵結(jié)構(gòu)的石墨烯晶體管和背柵結(jié)構(gòu)的石墨烯晶體管,通過測(cè)試兩種結(jié)構(gòu)的石墨烯晶體管,比較了頂柵結(jié)構(gòu)的晶體管和背柵結(jié)構(gòu)的晶體管的柵調(diào)制效果和開關(guān)比,。分析得到,頂柵結(jié)構(gòu)的石墨烯晶體管的柵調(diào)制效果和開關(guān)比好于背柵結(jié)構(gòu)的石墨烯晶體管,。

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