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聚焦電子束輻照誘導(dǎo)單晶Si納米線的選擇性非晶化和新型同軸結(jié)構(gòu)的形成

編號(hào):NMJS05245

篇名:聚焦電子束輻照誘導(dǎo)單晶Si納米線的選擇性非晶化和新型同軸結(jié)構(gòu)的形成

作者:李鋒,; 蘇江濱,; 李論雄;

關(guān)鍵詞:Si納米線; 選擇性非晶化,; 同軸結(jié)構(gòu),; 能量束非熱激活效應(yīng),; 納米曲率效應(yīng),;

機(jī)構(gòu): 廈門(mén)大學(xué)材料科學(xué)與工程系; 廈門(mén)大學(xué)中國(guó)-澳大利亞功能納米材料聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室,; 常州大學(xué)數(shù)理學(xué)院,; 廈門(mén)大學(xué)化學(xué)系; 華南師范大學(xué)實(shí)驗(yàn)中心,;

摘要: 使用改進(jìn)的原位透射電鏡觀察技術(shù)研究了室溫下單晶Si納米線在聚焦電子束輻照下的結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定性,。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)輻照區(qū)域內(nèi)單晶Si納米線外層會(huì)優(yōu)先非晶化且局部徑向膨脹,并隨輻照劑量增加進(jìn)一步形成新型3層包裹同軸結(jié)構(gòu)等一系列有趣的變化。傳統(tǒng)knock-on機(jī)制和電子束熱效應(yīng)并不能完全解釋上述實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象,然而利用最近提出的納米曲率效應(yīng)和電子束非熱激活效應(yīng)則能得到較好的解釋,。

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