編號(hào)：NMJS05191
篇名：納米SnO_2/SiO_2復(fù)合材料的制備及其對(duì)H_2氣敏性研究
作者：司莉粉,； 詹自力,； 李廣偉,；
關(guān)鍵詞：納米材料,； SnO2,； SiO2,； 氣敏性能,；
機(jī)構(gòu)： 鄭州大學(xué)化工與能源學(xué)院,；
摘要： 采用錫粒氧化法合成納米二氧化錫(SnO2),并以KH-550為改性劑,對(duì)納米二氧化錫進(jìn)行表面化學(xué)修飾,制得SnO2/SiO2復(fù)合材料,研究了不同條件下制得的SnO2/SiO2復(fù)合材料對(duì)H2的氣敏性能,。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明較佳的SnO2/SiO2復(fù)合材料制備工藝條件為:室溫條件下,改性劑與納米二氧化錫質(zhì)量百分比為9%,在甲苯溶劑中反應(yīng)3h,。制備的SnO2/SiO2復(fù)合材料對(duì)1000ppm H2的氣體靈敏度為37.506。
