編號：NMJS05189
篇名：碳纖維氈表面磁控濺射納米銅薄膜的工藝優(yōu)化
作者：趙曉曼,； 王鴻博,；
關(guān)鍵詞：碳纖維氈； 納米銅薄膜,； 磁控濺射,； 工藝優(yōu)化； 電磁屏蔽,；
機構(gòu)： 生態(tài)紡織教育部重點實驗室(江南大學(xué)),；
摘要： 以碳纖維氈為基材,優(yōu)化了采用磁控濺射技術(shù)在其表面沉積納米銅薄膜的工藝參數(shù)。運用正交試驗分析方法,選取沉積時間,、濺射功率和工作壓強3個參數(shù)為因素,分析了各因素對碳纖維氈的電磁屏蔽效能和導(dǎo)電性能的影響,。實驗表明:磁控濺射銅薄膜后,碳纖維氈的電磁屏蔽效能提高了116.25%,導(dǎo)電性能提高了45.81%。;碳纖維氈表面濺射沉積銅薄膜的最佳工藝方案為:沉積時間50min,工作壓強0.4Pa,濺射功率80W。
