編號：NMJS05157
篇名：PVA/CaF_2納米復(fù)合薄膜的合成、表征及光學(xué)性質(zhì)
作者：王孝華,； 聶興興,；
關(guān)鍵詞：共沉淀； 納米顆粒,； 納米復(fù)合材料,； 表征； 光學(xué)性質(zhì),；
機(jī)構(gòu)： 重慶交通大學(xué)理學(xué)院,；
摘要： 利用共沉淀法合成了CaF2納米顆粒(CaF2NPS),并利用不同量的CaF2NPS制備一系列的聚乙烯醇(PVA)/CaF2納米復(fù)合薄膜。采用X射線衍射法(XRD),、掃描電子顯微鏡(SEM)對材料進(jìn)行表征,并利用紫外-可見光譜(UV)和熒光光譜(PL)對材料的光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了研究,。結(jié)果表明:CaF2納米顆粒的形成與立方相有關(guān),晶粒尺寸大約在20~27 nm;CaF2納米顆粒均勻的分散在PVA膜表面;CaF2納米顆粒在約300 nm的邊緣有強(qiáng)烈的吸收,復(fù)合薄膜在200 nm和300 nm左右出現(xiàn)吸收帶;CaF2納米顆粒的PL譜在394 nm和790 nm附近有一系列的發(fā)射峰,復(fù)合薄膜的PL譜帶表明PVA的這3種(間規(guī)、無規(guī),、等規(guī))分子構(gòu)象的游離羥基中氧原子的2p2非鍵電子會發(fā)生n←π*電子躍遷,。
