編號(hào)：CPJS02504
篇名：高純鉬濺射靶材的研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)
作者：楊帆,； 王快社,； 胡平； 何歡承； 康軒齊,； 王華,； 劉仁智,；
關(guān)鍵詞：鉬,； 濺射靶材； 現(xiàn)狀,； 發(fā)展趨勢(shì),；
機(jī)構(gòu)： 西安建筑科技大學(xué)冶金學(xué)院； 西安電爐研究所有限公司,； 金堆城鉬業(yè)股份有限公司,；
摘要： 對(duì)高純鉬濺射靶材的國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀進(jìn)行了介紹,對(duì)高純鉬濺射靶材急需解決的幾個(gè)問題和發(fā)展趨勢(shì)做了探討,并且對(duì)其今后的研究和發(fā)展提出了建設(shè)性意見。
