編號(hào)：FTJS04399
篇名：氫氧焰入射角對(duì)石英玻璃沉積效率的影響
作者：徐彬,； 顧真安,；
關(guān)鍵詞：化學(xué)氣相沉積； 沉積效率,； 石英玻璃,；
機(jī)構(gòu)： 哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院； 中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院,；
摘要： 為提高CVD合成石英玻璃的沉積效率,對(duì)不同氫氧焰入射角的工況進(jìn)行了試驗(yàn)和數(shù)值模擬,比較并分析了沉積效率的變化規(guī)律和二氧化硅微粒的沉積機(jī)制.結(jié)果表明:數(shù)值模擬與試驗(yàn)測(cè)得的沉積效率基本吻合;近沉積面的速度分布決定了二氧化硅微粒的沉積分布,二氧化硅微粒沉積的主要機(jī)制為湍流沉積,熱泳沉積起協(xié)助作用;氫氧焰入射角不同,近沉積面的速度分布和沉積面的高溫區(qū)域均有明顯差異,入射角過(guò)大或過(guò)小,都會(huì)造成二氧化硅微粒沉積位置和沉積面高溫區(qū)的重合區(qū)域減小,降低沉積效率.入射角度為22°時(shí),沉積效率最高(71%).
