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鋁膜表面周期性納米坑織構(gòu)的制備

編號:NMJS04800

篇名:鋁膜表面周期性納米坑織構(gòu)的制備

作者:宋美周; 高斐; 劉生忠,; 李寧,; 劉曉靜,; 楊波;

關(guān)鍵詞:多孔氧化鋁膜; 陽極氧化; 鋁納米坑,; 光散射;

機構(gòu): 陜西師范大學(xué)物理與信息技術(shù)學(xué)院,; 陜西師范大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,; 陜西師范大學(xué)應(yīng)用表面與膠體化學(xué)教育部重點實驗室;

摘要: 采用一次陽極氧化鋁的方法分別在草酸,、磷酸和檸檬酸溶液中制備了多孔陽極氧化鋁膜,腐蝕掉鋁片表面的氧化鋁膜,鋁片表面留下周期性納米坑織構(gòu).利用掃描電子顯微鏡分析不同陽極氧化條件下鋁膜的表面形貌,結(jié)果表明:鋁片表面有序的六角陣列的納米坑形成,坑的孔徑大小隨陽極氧化電壓的升高而增大.鋁片陽極氧化電壓為300V,在濃度為4%檸檬酸中氧化2h,坑孔徑達到785nm.使用光散射儀測量樣品的光散射譜并研究樣品對光的散射特性,散射光的強度隨著散射角的增大而減小,鋁膜表面納米坑孔徑越大對光散射越強.

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