編號：NMJS04788
篇名：ZrO_2/W納米多層膜的氦離子輻照損傷研究
作者：孔淑妍,； 高原,； 王宏偉,； 王晨旭,； 朱劍豪,； 薛建明,； 顏莎,； 王宇鋼,；
關(guān)鍵詞：納米多層膜,； 離子輻照損傷,； 氦泡； 層間界面,； 晶界,；
機(jī)構(gòu)： 北京大學(xué)核物理與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室； 香港城市大學(xué)物理材料與科學(xué)系,；
摘要： 本文主要圍繞ZrO2/W納米多層膜的抗輻照損傷性能進(jìn)行研究.實(shí)驗(yàn)中使用70 keV He+在8×1016–6×1017cm 2的劑量范圍對磁控濺射生長的ZrO2/W多層膜樣品進(jìn)行輻照.輻照前后使用掃描電子顯微鏡(SEM),、X射線衍射儀(XRD)以及透射電子顯微鏡(TEM)對樣品的表面形貌及微觀結(jié)構(gòu)隨劑量增加的演化過程進(jìn)行表征.研究表明,ZrO2/W納米多層膜具有較強(qiáng)的抗輻照損傷及抑制氦泡的特性.實(shí)驗(yàn)結(jié)果也顯示,即使對于相同的納米多層膜組成成分,由于結(jié)晶品質(zhì)、晶界結(jié)構(gòu)和界面的不同,抗輻照性能有所差異.
