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SnS殼層厚度對ZnO/SnS核殼結(jié)構(gòu)納米棒光致發(fā)光性能的影響

編號:NMJS04733

篇名:SnS殼層厚度對ZnO/SnS核殼結(jié)構(gòu)納米棒光致發(fā)光性能的影響

作者:何朝輝,; 孟秀清

關(guān)鍵詞:ZnO/SnS,; 核殼結(jié)構(gòu)納米棒,; 光致發(fā)光,; Ⅱ型能帶排列

機(jī)構(gòu): 中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所

摘要: 通過簡單的水熱法制備了ZnO納米棒,然后成功地在ZnO納米棒上修飾了一層SnS殼層,形成了ZnO/SnS核殼結(jié)構(gòu)納米棒。利用X射線衍射,、掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡對上述核殼結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征,。結(jié)果表明制備的ZnO納米棒直徑在20~200nm,長度達(dá)1μm,隨著SnS殼層修飾時間的增加殼層厚度逐漸增加。PL分析表明,當(dāng)SnS殼層厚度很薄時,由于ZnO納米棒表面態(tài)得到了修復(fù),ZnO納米棒的PL強度得到了很好的提升;但當(dāng)SnS殼層厚度達(dá)到一定程度后,該核殼結(jié)構(gòu)會形成一種Ⅱ型能帶排列,這樣該核殼結(jié)構(gòu)的PL強度反而會被降低,。

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