編號(hào)：NMJS04636
篇名：pH值對(duì)電沉積NiFe合金形貌及析氫性能的影響
作者：嚴(yán)朝雄,； 王菊平； 徐志花,； 郝衛(wèi)東,；
關(guān)鍵詞：電沉積； NiFe合金,； 電化學(xué)析氫,；
機(jī)構(gòu)： 黃岡師范學(xué)院物理與電子信息學(xué)院； 黃岡師范學(xué)院化工學(xué)院,；
摘要： 采用電沉積方法制備了NiFe合金,。通過(guò)X-射線衍射(XRD)、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(SEM),、線性掃描和Tafel曲線等測(cè)試手段研究了合金相組成,、表面形貌及電化學(xué)析氫性能。研究結(jié)果表明,鍍液pH值對(duì)NiFe合金相組成,、表面形貌和電化學(xué)析氫性能有較大的影響,。當(dāng)鍍液pH值為6.19時(shí),NiFe合金為納米自組裝的花狀多孔結(jié)構(gòu),其電化學(xué)析氫性能好。
