編號：NMJS04618
篇名：Al/Ni和Al/Ti納米多層薄膜制備與表征
作者：李東樂,； 朱朋； 付帥,； 沈瑞琪,； 葉迎華； 華天麗,；
關(guān)鍵詞：軍事化學(xué)與煙火技術(shù),； Al/Ni納米多層薄膜； Al/Ti納米多層薄膜,； 磁控濺射,； 結(jié)構(gòu)表征； 熱分析,；
機構(gòu)： 南京理工大學(xué),； 海軍駐昆明地區(qū)軍事代表辦事處；
摘要： 用磁控濺射法制備了Al/Ni,、Al/Ti納米多層薄膜,。用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)、原子力顯微鏡(AFM)和X-射線衍射儀(XRD)對其進(jìn)行了結(jié)構(gòu)表征和成分分析,。用差示掃描量熱法(DSC)測定了納米多層薄膜的反應(yīng)放熱量,。結(jié)果表明:工作壓力為0.4 Pa,Al、Ni、Ti濺射功率分別為200,220,180 W條件下制備的Al/Ni,、Al/Ti多層薄膜表面均勻致密,無尖銳峰,層狀結(jié)構(gòu)分明,組成成分分別為Al,、Ni和Al、Ti單質(zhì)狀態(tài);Al/Ni,、Al/Ti多層薄膜放熱量分別為1134.64,918.36 J·g-1,達(dá)到理論值的82.2%,80.7%,。
