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碳納米管場發(fā)射陰極制備技術(shù)與應(yīng)用進展

編號:NMJS04582

篇名:碳納米管場發(fā)射陰極制備技術(shù)與應(yīng)用進展

作者:王福全,; 董長昆,; 李得天;

關(guān)鍵詞:碳納米管; 場發(fā)射,; 陰極;

機構(gòu): 溫州大學(xué)微納結(jié)構(gòu)與光電器件研究所,; 蘭州物理研究所真空低溫技術(shù)與物理重點實驗室,;

摘要: 重點介紹了以點、膜和陣列3種形式制備碳納米管陰極的最新研究進展,如基于點電子源的高分辨X射線管,基于膜電子源的可彎曲平面顯示技術(shù)和基于陣列電子源的易調(diào)制微波放大器,。介紹了各種陰極結(jié)構(gòu)的工作特性,討論了其性能的優(yōu)點與不足,并對于未來碳納米管陰極研究與發(fā)展相關(guān)的問題進行了探討,。

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