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核殼結(jié)構(gòu)Ag/SiO2復(fù)合納米材料的制備及性能研究

編號(hào):NMJS04324

篇名:核殼結(jié)構(gòu)Ag/SiO2復(fù)合納米材料的制備及性能研究

作者:王超男; 方靖淮;

關(guān)鍵詞:Ag/SiO2,; 核殼結(jié)構(gòu),; 復(fù)合納米材料; 表面等離子體共振,; 紫外-可見吸收光譜; 表面增強(qiáng)拉曼散射;

機(jī)構(gòu): (南通大學(xué) 理學(xué)院,; 江蘇 南通 226007);

摘要: 首先采用檸檬酸三鈉還原法制備Ag納米顆粒,,然后通過正硅酸四乙酯(TEOS)的水解縮聚在其表面直接生長SiO2,,制備核殼結(jié)構(gòu)的Ag/SiO2復(fù)合納米顆粒。SEM-EDS分析表明,,SiO2包覆層顯著改善了納米顆粒的分散性,。紫外-可見吸收光譜顯示,,Ag/SiO2的表面等離子體共振(SPR)吸收峰受殼層厚度的影響,并且對周圍介質(zhì)表現(xiàn)出良好的敏感性,。表面增強(qiáng)拉曼散射(SERS)光譜顯示殼厚達(dá)幾十納米的Ag/SiO2仍對結(jié)晶紫的拉曼信號(hào)具有增強(qiáng)作用,,表明SiO2層中存在孔洞結(jié)構(gòu),有利于提高Ag/SiO2對周圍介質(zhì)的敏感性,。

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