編號(hào)：FTJS03991
篇名：分散劑對(duì)亞微米氮化硅粉體分散性能的影響
作者：梁博,； 韓鳳蘭；
關(guān)鍵詞：分散劑,； 亞微米,； 氮化硅,； 沉降行為；
機(jī)構(gòu)： 北方民族大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,；
摘要： 本文利用研磨機(jī)將氮化硅(Si3N4)粉體研磨至亞微米級(jí),并分析分散劑對(duì)Si3N4顆粒粒度的影響,。從四甲基氫氧化銨(TMAH)、六偏磷酸鈉(SHMP)和Darvan-c這三種分散劑對(duì)亞微米Si3N4分散性能的曲線圖中可以看出,TMAH,、SHMP和Darvan-c都有很強(qiáng)的抑制沉淀的作用,對(duì)亞微米Si3N4的分散效果較好,。SHMP的加入量在1%時(shí)出現(xiàn)最佳值,隨著加入量的逐漸增加,亞微米Si3N4的分散效果也逐漸變差。比較這三種分散劑,0.4%的Darvan-c對(duì)亞微米Si3N4的分散效果優(yōu)于1%的SHMP和0.8%的TMAH對(duì)Si3N4的分散效果,。
