編號：FTJS03867
篇名：鈦硅多元摻雜類金剛石薄膜在不同氣氛環(huán)境下的摩擦學性能研究
作者：姜金龍； 黃浩； 陳娣,； 王瓊； 馮旺軍,； 郝俊英,；
關鍵詞：類金剛石薄膜； 多元摻雜,； 中頻磁控濺射,； 氣氛環(huán)境； 摩擦學性能,；
機構： 蘭州理工大學應用物理系,； 中國科學院蘭州化學物理研究所固體潤滑國家重點實驗室；
摘要： 采用中頻磁控濺射技術在單晶硅表面制備了鈦硅多元摻雜的含氫類金剛石薄膜.在球-盤摩擦試驗機上考察了不同氣氛環(huán)境對薄膜摩擦學性能的影響.利用掃描電子顯微電鏡和拉曼光譜分析了磨損表面形貌和轉移層結構,探討了薄膜的摩擦磨損機理.結果表明:薄膜在真空和氮氣環(huán)境下摩擦系數(shù)較小,、磨損率低,表現(xiàn)為磨粒磨損;在氧氣和高濕度大氣環(huán)境下摩擦系數(shù)較大,、磨損率高,表現(xiàn)為黏著磨損;在低濕度空氣環(huán)境下薄膜摩擦系數(shù)最低,表現(xiàn)為磨粒磨損和黏著磨損混合磨損機理;轉移層發(fā)生摩擦誘導石墨化和聚乙炔鏈CC鍵雙氫化兩種摩擦化學過程.
