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Ni-SiC納米復(fù)合鍍層的制備及表征

編號:NMJS04038

篇名:Ni-SiC納米復(fù)合鍍層的制備及表征

作者:陳紹軍;

關(guān)鍵詞:Ni-SiC納米復(fù)合鍍層,; 制備流程,; 微觀結(jié)構(gòu),; 顯微硬度,; 耐磨性,;

機(jī)構(gòu): 河源職業(yè)技術(shù)學(xué)院,;

摘要: 介紹了Ni-SiC納米復(fù)合鍍層的制備流程和其中各環(huán)節(jié)的技術(shù)要點(diǎn),并借助掃描電鏡,、X射線衍射儀,、顯微硬度計和摩擦磨損試驗機(jī)對所制備的納米復(fù)合鍍層的微觀結(jié)構(gòu)、顯微硬度和耐磨性進(jìn)行表征,。結(jié)果表明:采用優(yōu)選的鍍液配方和工藝參數(shù)組合,制備出結(jié)構(gòu)緊致,、性能優(yōu)良的Ni-SiC納米復(fù)合鍍層。與Ni-SiC微米復(fù)合鍍層相比,納米復(fù)合鍍層的相結(jié)構(gòu)有所不同,出現(xiàn)(311)和(222)兩個新晶面且在(111)和(200)晶面均呈現(xiàn)出擇優(yōu)取向,同時顯微硬度和耐磨性也明顯提高,。

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