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均勻沉淀法制備納米氧化鎂工藝研究

編號:NMJS03826

篇名:均勻沉淀法制備納米氧化鎂工藝研究

作者:高志謹,; 秦兵杰,; 馮國琳;

關(guān)鍵詞:納米氧化鎂,; 粒徑,; 均勻沉淀法;

機構(gòu): 中北大學(xué)化工與環(huán)境學(xué)院,; 衡水學(xué)院應(yīng)用化學(xué)系,;

摘要: 以氯化鎂為原料,尿素為沉淀劑,聚乙二醇辛基苯基醚(OP-10)為表面活性劑,采用均勻沉淀法制備了納米氧化鎂,�,?疾炝随V離子濃度、反應(yīng)物配比,、反應(yīng)溫度、煅燒溫度,、煅燒時間對氧化鎂粒徑的影響,。采用熱重分析儀對前驅(qū)體氫氧化鎂進行了表征,采用X射線衍射儀和掃描電鏡對氧化鎂進行了表征。結(jié)果表明,在鎂離子的濃度為1.5mol/L;反應(yīng)物配比為4:1;反應(yīng)溫度為110℃;煅燒溫度為500℃;煅燒時間為3h時,所得氧化鎂粒徑最小,為18nm,且粒徑分布均勻,晶型為立方晶系,。

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